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Hydrogen-500（S）金剛石MPCVD氫氣發生器是一種能夠連續可靠地產生高純度氫氣的設備，其純度可達到99.9999%以上。相比昂貴且危險的高壓氫氣鋼瓶。

HYDROGEN-2L/3L氣相色譜專用氫氣發生器是一種能夠連續可靠地產生高純度氫氣的設備，其純度可達到99.9999%以上。相比昂貴的高壓氫氣鋼瓶，該設備具有更高的安全性和經濟性，不再需要更換鋼瓶，從而避免了中斷重要分析工作的情況。

HYDROGEN/5L/10L/17L氫氣發生器是由超純水機制取二級水，并儲存至水箱備用的設備。當氫氣發生器缺水時，它會自動供給水。此外，多臺氫氣發生器還可以串聯使用，通過串聯控制線由一臺發生器控制其他發生器，實現產氣均勻分配。

高純CVD，MOCVD專用氫氣發生器的全部工作過程均由程序控制，自動恒壓、恒流，通過串聯控制線，可實現多組并聯使用，設備配有安全裝置，電解超純水制氫，無腐蝕、無污染，配有壓力控制，缺水自動監控，漏氣自動檢測。

功能方面，高壓氫氣發生器具有自動水位控制功能，當缺水狀態時，自動停機，自動補水功能，水量低于15%時，由外置水箱自動補水，無需停機加水。有效保護電解池，延長使用壽命。

CVD（Chemical Vapor Deposition）和MOCVD（Metal-Organic Chemical Vapor Deposition）是兩種常用的化學氣相沉積技術，用于制備薄膜、涂層和納米材料等。