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產地類別 | 進口 | 應用領域 | 環保,食品,化工,制藥,綜合 |
氫氣發生器型號:Hydrogen-500(S)
Hydrogen-500(S)金剛石MPCVD氫氣發生器是一種能夠連續可靠地產生高純度氫氣的設備,其純度可達到99.9999%以上。相比昂貴且危險的高壓氫氣鋼瓶,除此之外,該發生器還具有很大的優勢,它只需要去離子水和供電即可產生氫氣,一次加水可持續工作長達15天,成本低廉。同時,其安全性和簡便性能使其成為替代高壓氫氣鋼瓶的理想選擇。
通過適時適量地產生氫氣,金剛石MPCVD氫氣發生器能夠保持氫氣儲存體積和安全性。這種設備可以根據實際需求來調節氫氣的產生量,避免過量儲存氫氣所帶來的安全隱患。因此,氫氣發生器不僅能夠滿足實驗室對高純度氫氣的需求,還能夠保證操作人員的安全。
Hydrogen-500(S)金剛石MPCVD氫氣發生器采用SPE固態電解質技術,無需使用堿,直接電解純水。這種設計有效地保護了色譜柱。在結構上,該設備配備了分子篩耐用干燥劑,以產生純度為99.9999%的氫氣,確保結果的重現性。此外,內部采用了英國Peculiar硅橡膠圈(含硫量低),有效提高了氣體質量,保證了GC基線的平穩。
在功能方面,氫氣發生器集成了一體化微電腦控制的壓力和流量調節系統。它還具備自動水位控制功能,當缺水狀態時會自動停機,并具有自動補水功能。當Hydrogen-500(S)金剛石MPCVD氫氣發生器水量低于15%時,外置水箱會自動進行補水,無需停機加水。這種設計有效地保護了電解池,延長了使用壽命。
金剛石MPCVD氫氣發生器技術參數:
Hydrogen-500(S)金剛石MPCVD氫氣發生器在半導體制造領域扮演著至關重要的角色,其廣泛應用主要體現在以下幾個方面:
1.清洗與退火:氫氣作為清洗氣體,能夠有效去除半導體材料表面的污染物和氧化物,提供清潔的表面環境。同時,在退火過程中,氫氣有助于晶體的再結晶,提升材料的質量和性能。
2.賦活處理:通過將水合氧化物轉化為電氧化物,提高雜質離子濃度,從而改善半導體器件的性能和穩定性。
3.硅取向和外延生長調控:精確控制氫氣的流量和溫度,可以實現硅晶片特定方向的優先生長,獲得所需的硅材料取向,這對于半導體器件的制造至關重要。
4.清除氧污染:在特殊工藝中,利用氫氣清除氧氣污染,避免生成影響器件性能的氧化物,確保半導體產品的高質量。
5.CVD和MOCVD工藝:作為CVD(化學氣相沉積)和MOCVD(金屬有機化學氣相沉積)技術中的專用設備,金剛石
MPCVD氫氣發生器能夠提供高純度、穩定壓力的氫氣,滿足這些先進制造工藝對氣體質量的嚴格要求。
6.其他領域應用:除了半導體制造,金剛石MPCVD氫氣發生器還廣泛應用于太陽能電池、化學反應、燃料電池等多個領域,為這些領域提供穩定可靠的氫氣供應。